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高温三温区管式气氛炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等,也适用于石墨烯、碳纳米管、二硫化钼等二维材料的制备。
低温单温区系列管式炉系周期作业,供企业、院校、研究机构等单位选用。$n设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,应用在半导体、纳米技术、碳纤维等新材料新工艺领域。
管式气氛炉以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,管式炉炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,分为上下两个半圆,需要急速冷却或换管子时,可以打开炉膛,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
真空管式炉是供实验室、工矿企业、科研单位作元素分析测定和一般小型钢件的淬火、退火、回火和电子陶瓷等新材料的加热用仪器。